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借用被封号的娘P风小逸的言语，晶瑞电材（300.SZ）上半年的成绩凶猛害，营收、净赢利翻倍倍了也。上半年公司营收8.63亿元，现已超越2019年全年营收，照此估量全年营收超越16亿也是大概率的。上半年净赢利1.16亿元，扣非净赢利0.55亿元，较去年同期别离增加4.67倍和2.71倍。

公司现在开展成为以微电子资料为主的渠道新高新技能企业，在超净高纯试剂和光刻胶范畴具有深沉的技能、研制和产品堆集，这离不开一位换岗屡次、年近六旬的技能大佬穆启道先生。穆启道是江南大学教授，在参加晶瑞电材之前其在北京科华任职五年。

本年上半年改名后的晶瑞电材成绩十分亮眼，请看下图：

资料来历：晶瑞电材上半年首要财务数据，公司半年报，阿尔法经济研究

公司现在现已开展成了以微电子资料为主的渠道型高新技能企业，环绕半导体资料和新能源资料两个方向，公司形成了光刻胶及配套资料、超净高纯试剂、锂电池资料和根底化工资料四大事务。上半年受商场需求旺盛驱动，公司产品量价齐升，首要产品营收均呈现高速增加：

资料来历：晶瑞电材上半年营收构成，公司半年报，阿尔法经济研究

按产品分类，光刻胶及配套试剂完结营收1.43亿元，同比增加70.98%；超净高纯试剂1.47亿元，同比增加16.24%；锂电池资料完结营收2.88亿元，同比增加91.74%；根底化工资料营收2.43亿元，同比增加34.19%。

不过因为上半年原资料价格上涨以及依照新手入原则要求，将不归于单项履约责任的运费计入经营本钱所造成的，上半年经营本钱增速超越经营收入增速，揉捏了毛利率空间，公司四大类产品毛利率呈现不同程度的下降，尤其是根底化工资料毛利率下降11.49个百分点至7.47%，现已处于微利状况。

费用方面，上半年晶瑞电材出售期间费用率下降至10.38%，比较去年同期下降11.52个百分点，首要是受新手入原则影响出售费用下降50.54%，陈述期内汇兑损益及借款利率下降让财务费用下降25.31%，管理费用和研制投入别离为0.43亿元和0.19亿元，别离增加48.07%和24.81%：

资料来历：晶瑞电材期间费用，Wind股票，阿尔法经济研究

晶瑞电材光刻胶产品由子公司姑苏瑞红出产，姑苏瑞红作为国内光刻胶范畴的前驱，具有近30年的光刻胶出产经历。公司紫外负性光刻胶和宽谱正胶及部分g线光刻胶已别离规划供给商场28年和25年，高端光刻胶方面，KrF光刻胶现已完结中试，产品分辨率到达0.25-0.13微米技能要求，建成了中试演示线，现在进入客户测验阶段；ArF高端光刻胶研制造业已发动，在设备、人才等方面现已加大投入，未来ArF光刻胶将满意90-28nm制程技能需求。依照公司方案，ArF光刻胶配方将于2022年完结研制，2023年完结中试线建造：

资料来历：晶瑞电材开展进程，券商研报，阿尔法经济研究

本年1月下旬，公司购买的一台ASMLXT1900Gi型浸没式光刻机运抵姑苏并搬入高端实验室，用于高端光刻胶研制。公司现已装备了ASML、Nikon的光刻机和东京电子的ACT-cleantrack涂胶显影设备，满意光刻胶的研制及检测。

资料来历：晶瑞电材研制光刻胶所用设备，公司问询反响资料，阿尔法经济研究

除了半导体用光刻胶，晶瑞电材与日本三菱化学于2016年在姑苏设立了LCD用五颜六色光刻胶一起研究所，并于2019年开端批量出产供给显现面板厂商。现在公司的半导体客户有中芯世界、长江存储和华润微等，面板客户有华星光电和中电熊猫等：

资料来历：晶瑞电材首要客户，揭露资料收拾，阿尔法经济研究

晶瑞电材继续出产光刻胶28年，是国内最早研制及规划量产光刻胶的几家企业之一。截止2020年9月底，公司具有16项光刻胶及配套资料专利，其间绝大部分为原创专利，包含193nm光刻胶制备、光刻胶剥离及清洗等关键环节。光刻胶制备是光刻胶最中心的技能，公司193nm光刻胶制备技能专利申请意味着把握了最中心的工艺：

资料来历：晶瑞电材光刻胶中心专利，公司问询反响资料收拾，阿尔法经济研究

产能方面，截止2020年9月底，晶瑞电材具有光刻胶产能825吨，年产量400多吨，2020年前九月产能利用率下降首要系2020年公司新增500吨五颜六色光刻胶产能，1-9月份对应新增375吨五颜六色光刻胶产能，因该类光刻胶处于商场开辟期，导致产能利用率下降：

资料来历：晶瑞电材光刻胶产能，公司问询反响资料收拾，阿尔法经济研究

不过除掉五颜六色光刻胶产能，公司原有光刻胶产能仍是比较有限。

晶瑞电材在超净高纯试剂范畴具有长时间技能堆集，多款试剂产品到达G4的高等级，其间双氧水、硫酸和氨水三大类产品现已完结全体技能打破，自主开发了超大规划集成电路用超净高纯双氧水技能等多项中心技能，产品等级到达职业最高的G5等级，可满意4nm及以上IC加工工艺，公司也是国内仅有一起可供给超净高纯硫酸、超净高纯双氧水和超净高纯氨水三种高纯试剂的企业，产品已取得中芯世界、华虹和长江存储等客户的收买或认证：

资料来历：晶瑞电材高纯试剂基本信息，券商研报，阿尔法经济研究

资料来历：晶瑞电材高纯试剂等级，券商研报，阿尔法经济研究

资料来历：晶瑞电材高纯试剂中心技能，券商研报，阿尔法经济研究

产能方面，现在晶瑞电材具有姑苏吴中经济开发区善凤路河东工业园、成眉石化园区、华县工业园区、如皋港化工新资料产业园和马鞍山和县省精细化工产业基地五大园区，具有光刻胶及配套试剂产能0.81万吨，具有超净高纯试剂产能3.87万吨，产能均处于高位运转。别的公司还新建有4万吨超净高纯产线，新产能建成后将有利于企业进一步扩展商场份额，进步竞争才能：

资料来历：晶瑞电材首要产品产能，券商研报，阿尔法经济研究

2019年晶瑞电材以4.1亿元价格收买了载元派尔森，进入NMP事务。公司的锂电资料首要包含NMP、SBR、CMCLi、PAA和电解液等，其间NMP在锂电池出产中作为正极涂布溶剂和导电剂浆料溶剂，起着重要的效果。依据GGII猜测，2025年我国锂电池商场出货量将到达615GWh，作为正极溶剂，NMP的需求量将到达105万吨，比较2020年的24万吨，五年内净增加81万吨。

现在公司具有2.5万吨/年的NMP出产及收回才能，经过多年商场开辟和客户保护，公司具有一批长时间协作的优质客户，三星西安与公司到达长时间战略协作关系，公司是三星西安仅有指定NMP供给商。

其他锂电资料方面，SBR是锂电池粘接剂的重要成分，公司的SBR产品具有用量少、内阻低、耐低温功能杰出和循环功能优秀等长处，能够满意客户对粘接功能、耐溶剂功能等产品特性的个性化需求。公司研制的CMCLi粘接剂也顺畅量产，比较传统CMCNa粘接剂能够进步首效功能和改进低温功能等，完结了我国在该范畴零的打破。

本年8月份公司发布公告称将新建年产1万吨γ-丁内酯及5万吨半导体级N-甲基吡咯烷酮扩建项目，项目建成后将有助于推进公司产能布局和事务开展，稳固商场位置。

公司的根底化工资料首要是硫酸、三氧化硫和蒸汽等产品，公司具有年产30万吨高品质工业硫酸，跟着年产9万吨超大规划集成电路用半导体级高纯硫酸技改项目的施行，部分硫酸产能将由根底化工职业类别转化为超净高纯试剂职业类别，产品结构进一步优化。

晶瑞电材的事务亮点仍是超净高纯试剂和光刻胶及配套试剂，其间超净高纯试剂范畴公司具有20余种产品，硫酸、氨水和双氧水现已到达G5等级，满意国产代替需求，其他试剂连续向高端延伸；光刻胶及配套试剂方面，除了量产多年的G线、I线等低端产品，公司KrF光刻胶完结中试，量产可期，而更高端的ArF将于2023年进入中试，未来公司将与南大光电等一道，有望成为重要的高端光刻胶供给商。

晶瑞电材的中心技能人员是刘兵先生和穆启道先生。尤其是1963年出世的穆启道先生，1986年开端便从事化学试剂研究作业，2006年以来先后在北京科华、昆山瑞和和姑苏瑞红从事电子化学品及超净高纯试剂的研制造业，特别是在超净高纯试剂范畴具有深沉技能堆集，先后掌管并完结了多项国家02严重科技专项和“863”严重科技专项课题等多项课题。

百度学术上能够找到多篇穆启道的论文，比较重要的有：

超净高纯试剂的现状、使用、制备及配套技能（2002年）：超净高纯试剂的首要使用于基片在涂胶前的湿法清洗、光刻过程中的蚀刻及终究去胶、硅片自身制造过程中的清洗，其制备及配套处理技能有工艺制备技能（包含精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、等温蒸馏、减压蒸馏、气体吸收、化学处理等）、颗粒剖析测验技能、金属杂质剖析测验技能（ICP、ICP-MS等）、非金属杂质剖析测验技能（离子色谱法）、高纯水技能和包装技能等。

超净高纯试剂的现状与制备（2006）：除了2002年论文说到的精馏等办法，还说到离子交换技能和膜分离技能。

集成电路制造技能的开展与超净高纯试剂的使用（2003）：指出MOS级超净高纯试剂现已悉数完结国产化，BV-Ⅲ（相当于SEMIC7等级）国内供给500吨，其他进口，而BV-Ⅳ级（相当于SEMIC8）及以上的悉数依靠进口.

微电子光致抗蚀剂的开展及使用（2014）：介绍了从聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶-叠氮化合物、酚醛树脂-重氮萘醌类光致抗蚀剂到DUV、F2和EUV光刻胶中所用的光致抗蚀剂，介绍了下一代技能用光致抗蚀剂的最新研究成果。

含N-苯基马来酰亚胺甲基丙烯酸酯共聚物的组成及其在负性光致抗蚀剂中的使用（2015）：介绍了一种由甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）、N-苯基马来酰亚胺（N-PMI）和甲基丙烯酸环己基酯（CHMA）等制备光致抗蚀剂甲基丙烯酸酯共聚物G-PMMNC的办法。

193nm浸没式光刻资料的研究进展（2008）：在北京科华时宣布的论文，介绍了浸没液体、顶部涂料和浸没式光刻胶的研究成果。

支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐的组成及在光致抗蚀剂中的使用（2015）：，介绍了以苯乙烯、马来酸酐为共聚单体经过巯基链转移聚合法组成了具有不同支化单体含量的支化聚合物(BPSMA)。

RAFT聚合法组成甲基丙烯酸酯共聚物及其在负性光致抗蚀剂中的使用（2016）：介绍了以甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸苄基酯（BZMA）、甲基丙烯酸羟乙酯（HEMA）和丙烯酸正丁酯（BA）为共聚单体，偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,2-(十二烷基三硫代碳酸酯基)-2-甲基丙酸(DMP)为链转移试剂,选用可逆加成一开裂链转移聚合(RAFT)制备了甲基丙烯酸酯共聚物(PMBBH)。

248nm光刻胶用丙烯酸共聚物的组成与功能（2017）：以对乙酰氧基苯乙烯(ASM)、丙烯酸叔丁酯(TBA)、丙烯酸四氢呋喃酯(TA)和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯(MAM)为单体，偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂，经过自由基聚合制备了不同MAM含量的丙烯酸酯类共聚物P(ASMco-TBA-co-TA-co-MAM)(PATTM)，参加一定量的甲醇钠和甲醇进行醇解,制得丙烯酸酯类共聚物PATTM-A。

2013年5月至今穆启道先生上任于姑苏瑞红并担任总工程师职务，在此期间宣布的论文反响了晶瑞电材光刻胶及配套试剂的相关技能。

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